Anua Birch Moisture Mask 25ml

Detailní popis produktu

Anua Birch Moisture Mask je hydratační sheet maska vytvořená s březovou šťávou z Gangwon-do, která dodává pokožce intenzivní hydrataci a pomáhá udržovat vitalitu pokožky s bohatými vitamíny A, C a minerály. Obsahuje patentovanou složku Aquaxyl™, která zabraňuje ztrátě vlhkosti pleti, a 10 typů kyselin hyaluronových, které udržují pleť hydratovanou.

​

Klíčové složky:

• Aquaxyl™ - patentovaná složka, která zabraňuje ztrátě vlhkosti pokožky.
• Kyselina hyaluronová - intenzivně hydratační složka, která viditelně vypíná pleť a redukuje výskyt vrásek.
• Aloe vera - aloe vera má silné protizánětlivé, zklidňující a hydratační účinky.
• Kyselina askorbová - hlavní antioxidant, který zvyšuje tvorbu kolagenu v pokožce, zmírňuje pigmentaci a hnědé skvrny a zvyšuje ochranu proti UV záření.

Použití:

Vhodné pro všechny typy pleti.

Návod k použití:

Naneste na očištěný obličej. Nechte působit 15 až 20 minut a poté jemně odstraňte. Neoplachujte. Jemně vklepejte zbývající sérum do pokožky, dokud se zcela nevstřebá.

Složení:

Voda, dipropylenglykol, butylenglykol, glycerin, diglycerin, šťáva z Betula Platyphylla Japonica, beta-glukan, hyaluronát sodný, hydroxypropyltrimonium hyaluronát, acetylovaný hyaluronát sodný, hydrolyzovaná kyselina hyaluronová, kyselina hyaluronová, krosolymer hyaluronátu sodného, hydrolyzovaný hyaluronát sodný, Hyaluronát draselný, glycyrrhizát draselný, trehalóza, alantoin, bambucké máslo (Butyrospermum Parkii), fytosfingosin, ceramid NP, glukóza, xylitol, Xylitylglukosid, Anhydroxylitol, Arginin, Kofein, Biosacharidová guma-1, Karbomer, Hydroxyacetofenon, Kaprylyl glykol, Ethylhexylglycerin, 1,2-Hexandiol, Fytát sodný

POZNÁMKA: Složení se může měnit podle uvážení výrobce. Nejúplnější a nejaktuálnější seznam složek naleznete na obalu výrobku